头皮屑及其成因

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头皮屑是由于头皮功能失调引起的，它与头发的化学和物理无直接关系。头皮屑（干性皮脂溢、干糠疹或头皮脂溢）曾被看作是慢性非炎症的头皮鳞片，它与牛皮癣、特应性皮炎不同。然而，另一些研究结果证实，在头皮屑上表皮有炎症存在。也有人提出，对头皮屑的生成可能起作用的因素包括激素、代谢缺陷、饮食、神经系统紧张、药物和化妆品引起的炎症等，头皮屑的成因至今还未被完全了解，尚存在一些争论。较普遍的看法认为卵型皮层芽胞菌（PITYOSPQRUM OVALE）是头皮屑共同的菌群，它是引起头皮屑产生的原因之一。因此，减少头皮屑的 有效方法是使用抑菌剂如Ketacpnazole、Selenium sulphide和吡啶硫铜锌等，例如用含Ketaconazole成份的Nizoral洗剂擦头皮或用含Selenium sulphide成份的Selsun洗发水洗头，都可减少头皮微生物滋长，有效地控制头皮屑。实际上，区分头皮屑和脂溢性皮炎是有一定的困难的。


有头皮屑时角质层比正常进薄，表皮更新速度增加。角质细胞向表皮转移加快，角化不完全，角质层粘着力降低，产生碎片状头皮屑。头皮屑与年龄有关，青春期前很少有头皮屑，一般从青春期开始，20多岁时达到最高峰，中年和老年时下降。头皮屑冬天较多，夏天较少。男女没有很大的差别。去头皮屑香波对抑制头皮屑较有效。